2015-6-27LiDingChun 深圳长城开发铝基片有限公司 2015-6-27抛光清洗工艺流程 ADE厚度分组 一步擦洗 一步抛光 二步抛光 AOI全检 二步清洗 Candela测量 SPC SPC LiDingChun 深圳长城开发铝基片有限公司 2015-6-27抛光清洗检测原理 ◆抛光的切削原理: 使用一定的压力，通过抛光机上／下盘相对于盘片的运动，在抛光液颗粒的机械作 用和化学物质的化学作用下，对盘片表面进行切削，使盘片产生一定的去除量 ◆OL的清洗原理: 利用清洗剂的化学作用和PVA海绵刷的机械作用再结合超声波兆声波的作用将盘片表 面的脏污进行去除,最后借助烘干仓内DI水与盘片在高速转动的相对速度下,会产生 较大的冲击力达到清除吸附杂质的目的, 并在高速旋转时,增大离心力,使盘片表面 很快脱水进行烘干 ◆AOI的检测原理: 主要是利用激光对盘片表面进行照射，根据光反射回的强度将其转换成电压值从而 判断和检测出盘片的表面缺陷并分类(不同形状的缺陷反射的电压值不一样) 深圳长城开发铝基片有限公司 2015-6-27厚度分组工艺简介 ◆厚度分组的目的: 测量盘片厚度，根据厚度进行分组，将厚度接近的盘片归为一组(一盘) ◆厚度分组的作用: 使每一个盘片在抛光过程中所受的压力均等,有利于控制各种工艺参数 ◆厚度分组的程序: 根据工艺要求设定分组程序,目前我们SAH料每一个组别内的间距是0.05,比如说我们 现在的四组物料的厚度是在69.97-69.02之间,该四组物料最小值减0.05等于3组,该 四组物料最大值加0.05等于5组,根据该间距依次类推即可算出其它组别物料的厚度 ◆厚度分组的要求: 根据要求抛光每盘料厚度间距(Range)要求控制在0.1之内,那么分组时4组跟5组物料 是可以放在一起做为一盘给抛光进行抛光,如果没按0.1来控制的话,可能会影响合格 率,因为当一盘料有的特别厚而有的特别薄在抛光时不利于控制各项数据 深圳长城开发铝基片有限公司 2015-6-27抛光一步工艺简介 ◆一步抛光的目的: 大量去除电镀后盘片表面上的研磨划痕,镍磷层和各种缺陷等 ◆一步抛光的程序: ◆一步抛光的作用: 对镀镍片的表面质量进行初步控制为二步精抛做准备 深圳长城开发铝基片有限公司 2015-6-27抛光一步工艺简介 ◆一步抛光的抛光液: ◆一步抛光的辅料: ◆一步抛光的外围环境: 深圳长城开发铝基片有限公司 2015-6-27抛光一步工艺简介 ◆一步抛光做料步骤(新PAD): ◆一步抛光做料步骤(旧PAD但停机2小时): ◆一步抛光做料步骤(旧PAD但停机超过2小时): ◆一步抛光做料讲解: 深圳长城开发铝基片有限公司 2015-6-27一步擦洗工艺简介 ◆一步擦洗的目的: 对盘片进行清洗为后工序做准备 ◆一步擦洗的作用: 对盘片进行清洗提高和便于后工序的工艺控制 ◆一步擦洗的步骤: ◆一步擦洗的辅料: 深圳长城开发铝基片有限公司 2015-6-27抛光二步工艺简介 ◆二步抛光的目的: 去除一步抛光后盘片表面残留的细小划痕和电镀缺陷 ◆二步抛光的作用: 对盘片表面进行高精度的抛光,达到相关的控制参数 ◆二步抛光的程序: 深圳长城开发铝基片有限公司 2015-6-27抛光二步工艺简介 ◆二步抛光的抛光液: ◆二步抛光的辅料: 深圳长城开发铝基片有限公司 2015-6-27抛光二步工艺简介 ◆二步抛光的外围环境: ◆二步抛光的工作要点: 二步抛光是抛光过程中的重中之中，所以对二步的抛光要求比较严格，因此在二步 抛光过程我们要做到以下几点 深圳长城开发铝基片有限公司 2015-6-27抛光二步工艺简介 ◆二步抛光做料步骤(新PAD): ◆二步抛光做料步骤(旧PAD停机超过30分钟): ◆二步抛光做料讲解: 深圳长城开发铝基片有限公司 2015-6-27二步清洗工艺简介 ◆二步清洗的作用: 清洗盘片表面脏污并甩干 ◆二步清洗的目的: 对盘片表面的脏污进行高规格的清洗并甩干,以达到客户的要求 ◆二步清洗各模块简介: 深圳长城开发铝基片有限公司 2015-6-27二步清洗工艺简介 ◆二步清洗的清洗流程: ◆二步清洗的辅料: 深圳长城开发铝基片有限公司 2015-6-27二步清洗工艺简介 ◆清洗岗位工作重点要求: ◆清洗岗位维修要求: 深圳长城开发铝基片有限公司 2015-6-27AOI测量简介 ◆AOI测量的目的: 对盘片的表面质量进行检测 ◆AOI测量的作用: 对盘片的表面质量进行监控并分类,利于控制产品的质量和为改善提供依据 ◆AOI测量流程: ◆AOI测量要求: 深圳长城开发铝基片有限公司 2015-6-27Candela测量简介 ◆Candela测量的目的: 对盘片的表面质量进行检测 ◆Candela测量的作用: 对盘片的表面质量进行监控并分类,利于控制产品的质量和为改善提供依据 ◆Candela测量流程: ◆Candela测量和AOI测量的比较: