一张图看懂光刻胶 新材料在线 2015年11月 基本简介 01 光刻胶简介 什么是光刻胶？ 由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成份组成的对光敏感的 混合液体。在紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线 等光照或辐射下，其溶解度发生变化，经适当的溶剂处理， 溶去可溶性部分，最终得到所需图像。 什么是光刻胶专用化学品？ 指生产光刻胶使用的化学原料，包括光引发剂（包括光增感 剂、光致产酸剂）和光刻胶树脂、单体（或活性稀释剂）三 种主要化学品成分和其他助剂。 光刻胶应用领域及类型 主要类型 主要具体品种 PCB 光刻胶 干膜光刻胶、湿膜光刻胶、光成像阻焊油墨等 彩色光刻胶及黑色光刻胶、LCD 衬垫料光刻胶、TFT LCD 光刻胶 配线用光刻胶等 g 线光刻胶、i 线光刻胶、KrF 光刻胶、ArF 光刻胶、 半导体光刻胶 聚酰亚胺光刻胶、掩模版光刻胶等 CCD 摄像头彩色滤光片的彩色光刻胶、触摸屏透明光 其他用途 刻胶、MEMS 光刻胶、生物芯片光刻胶等 02 光刻胶专用化学品构成及作用 原料 作用 光刻胶的关键组分，对光刻胶的感光度、分辨率等起决 定性作用。因产生的活性中间体不同，可分为自由基型 光引发剂和阳离子型光引发剂。 光引发剂 引发助剂，是指能吸收光能将能量转移给光引发剂或本 身不吸收光能但协同参与光化学反应提高引发效率的物 质。 光增感剂 在吸收光能后分子发生光解反应，产生强酸引发反应的 物质，用于最尖端的化学增幅光刻胶。 光致产酸剂 光刻胶中比例最大的组分，构成光刻胶的基本骨架，主 要决定曝光后光刻胶的基本性能，包括硬度、柔韧性、 附着力、曝光前和曝光后对特定溶剂的溶解度产生变化、 光学性能、耐老化性、耐蚀刻、热稳定性等。 光刻胶树脂 含有可聚合官能团的小分子，也称之为活性稀释剂，一 般参加光固化反应，降低光固化体系黏度，同时调节光 固化材料的各种性能。 单体 助剂 根据不同的用途添加的颜料、固化剂、分散剂等调节性 能的添加剂。 来源：众成证券 Copyrights ? xincailiao. All Rights Reserved 03 光刻工艺流程 Copyrights ? xincailiao. All Rights Reserved