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论文题目：技术路径锁定的形成机理与破解研究
B２０１９０４２９
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学
作者：
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工商管理
业名称：
专
２０２３年０６月０６曰技术路径锁定的形成机理与破解研宄
Re s e ar c h on th e fo rm at ion m e c han is m and c rack in o f
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t e c hno l o ath l o c k in
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研宄生姓名：陈培
指导教师姓名：杨武
北京科技大学经济管理学院
北京１０００８３，中国
Do c t o r De gre e Can d id at e ：pe iCh e n
Sup e rv is o r ：Wu Yan g
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Sc h o o l o f Ec o n o m c s an d Man age m e n t
Un iv e r s it o f Sc ie nc e an d Te c hn o l o Be iin
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３０Xu e y u an Ro ad ，Ha id ian Dis t r ic t
Be iin １０００８３，p．R．CHI NA
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分类号：密级：
DC１０００８
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单位码：
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北京賴士学位论文
技术路径锁定的形成机理与破解研究
论文趣目：
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北京科技大学
指：：
导教师单位
指小触：：
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位
２０２３０６０
论文日期：年月６日
学位授予单位：北京科技大学北京科技大学博士学位论文
摘要
“”
近年来全面芯片荒已暴露出中国芯片依赖全球供应链的巨大风险性。
“”
一
尤其在中美贸易争端的背景下，系列断供事件暴露出我国产业安全中
“”
卡脖子的技术问题，宄其根源在于先发国家对于后发国实施的技术路径
锁定战略。面对严峻的挑战，当务之急是解决技术路径锁定带来的种种问题。
基于此，本文立足于后发国家视角，对技术路径锁定的形成机理与破解进行
研宄，对我国破解光刻产业技术路径锁定的困局具有重要意义。
“”
一一
本文依据发现问题一分析问题解决问题案例分析的研宄思路从
一
理论和实践两个维度展开研宄：方面，基于技术轨道与技术锁定理论，聚
焦产业技术路径的锁定问题，分别对技术路径锁定的内涵与特征、形成机理
“
一
与过程、破解腏郊把≡窠猩钊胩教郑涣矸矫妫岷衔夜饪碳际趼?
”“
一
径锁定的困局，依据技术路径锁定识别与测度技术路径锁定破解模式
”
及选择的逻辑框架，综合运用主路径方法、LDA主题模型、社会网络等实
。
证方法，对后发国家视角的技术路径锁定形成与破解进行了较为系统的研宄
并得到以下结论：
（１）技术路径锁定形成机理和过程比较复杂，核心技术的特征、技术轨
道的演化规律以及技术主体之间的技术竞争是技术路径锁定的重要影响因素，
并强调了锁定形成的特征包括技术积累性、技术排他性、路径依赖性等。
（２）技术路径锁定演化的规律提示我们，对技术路径极限的认知是研宄
一
开发战略选择和研发资源配置的基础。如果条轨道占据主导会减弱其他轨
道的发展动力，不同路径的积累性不同导致技术路径锁定的程度有强弱之分，
一
因此，是在主技术轨道竞争中争取突破，还是在分支轨道上寻求机会是个
重要的战略选择。对于后发国家而言技术路径锁定破解的腏接χ氐愎刈⒒?
。
于轨道间跃迁的破解路径，包含积累式轨道间跃迁以及跨越式轨道间跃迁
一
（３）通过光刻产业案例研宄发现，光刻技术路径变革均是技术发展到
定阶段，受原有技术路径发展空间的制约而寻求新的突破。目前正处于EUV
技术路径的锁定阶段，从１９７７年开始先发者已经围绕EUV辐射系统、污染
屏障这条路径开始研发，但直到２００５年才成为技术主路径。关键技术主要来
I 、
自阿斯麦和美国的大学和实验室，如MT劳伦斯、桑迪亚实验室等，截至
到现在，领先者已经在EUV技术路径上积累了４０年有余。与传统的光刻技
术相比，技术主体发生了较大的变化，阿斯麦、台积电是主要的技术领导者，
一
东京电子和罗姆在新轮的技术变革中，成为了EUV光刻胶技术领导者，美
－－
I I I 技术路径锁定的形成机理与破解研宄
国锁定了大部分核心技术与技术路径。
（４）我国与发达国家差距较大，国内技术主体既没有出现在主路径中也
，
没有出现在专利权人网络中，说明技术锁定抑制了我国的技术创新至今无
法摆脱技术受制于人的现状。对于我国而言光刻技术路径锁定破解的模式应
，
重点关注基于轨道间跃迁的破解路径，其中，从光刻方式层面来看纳米压
；芯
印光刻、电子束光刻有可能作为跨越式轨道间跃迁的锁定破解路径从片
一
。
材料层面来看，碳基电子技术有可能作为积累式轨道间跃迁的破解路径
一
V，
方面，仍然可以延续DU光刻技术另方面我国在碳基电子技术领域则
。
与领先者锁定强度差距较小，从而论证了技术换轨的可能性
本文的创新点：
２）
（１）将技术轨道和后发者视角相结合揭示了技术路径锁定形成机理４
结合动态技术演化与静态技术差距进行技术路径锁定的识别与测度，通过技
（３）
术路径锁定的相关内容完成了对基础主路径方法的拓展与修正；构建了
“
（４）
基于技术轨道跃迁的技术路径锁定破解模式及选择模型；立足我国光
”一
刻技术路径锁定的困局总结出个完整的光刻机产业案例。
本研宄对技术路径锁定的形成机理、形成过程以及破解模式进行理论分
，
析，挖掘了技术路径锁定的关键要素并构建了识别与测度方法弥补了后发
国家视角下技术路径锁定理论与实证研宂方面的缺乏，对技术锁定理论体系
进行完善和补充。在实践上，由于我国面临先发国家对后发国实施的技术锁
定战略，是我国技术创新发展的关键阶段，本研宄重点开展光刻技术卡脖子
情境下技术路径锁定的理论研宄与实证研宄，丰富了技术锁定的内涵，也对
一
相关的产业发展提供定参考。
：．业
关键词技术路径锇定，技术路径锁定破解，技术轨道紐光刻产
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